Objetivos de pulverización catódica de metal

Objetivos de pulverización catódica de metal Tenemos una amplia gama de objetivos de pulverización catódica de metal de alta pureza como aluminio, titanio, cromo, cobalto, cobre, oro, plata, hafnio, iridio, molibdeno, con una pureza de 99.9% a 99.9999%, que se pueden utilizar para semiconductores. , Decorativo, Revestimiento de vidrio y revestimientos IC. Objetivos de pulverización catódica de metal Símbolo Materiales Pureza estándar Forma Al Aluminio 99.99%~99.9999% Sb a medida Antimonio 99.99% Ba a medida […]

Objetivos de pulverización catódica de aleación

Objetivos de pulverización catódica de aleación Able Target proporciona varios objetivos de pulverización catódica de aleación de acuerdo con diferentes composiciones personalizadas. Producción avanzada Con hornos de inducción al vacío, hornos de fusión al vacío, laminadores, centros de mecanizado CNC, rectificadoras, que pueden realizar la fundición de lingotes y el procesamiento posterior de un kilogramo a varios cientos de kilogramos, logrando un control total de la producción y asegurando mejor la calidad del producto. […]

Objetivos de pulverización catódica de óxido

Objetivos de pulverización catódica de óxido Los objetivos de pulverización catódica de óxido se utilizan ampliamente para paneles planos, células solares, industrias de semiconductores y fines de investigación de universidades. Objetos de pulverización catódica de óxido Símbolo Materiales Estándar Pureza Composición Forma Al2O3 Óxido de aluminio 99.99% Por encargo Por encargo Sb2O3 Óxido de antimonio 99.99% Por encargo Por encargo ATO Óxido de estaño dopado con antimonio 99.9% ~ 99.99% Por encargo BaO Óxido de bario […]

Objetivos de pulverización catódica rotatoria

Los objetivos de pulverización catódica también llamados objetivos de pulverización catódica giratorios, o objetivos de pulverización catódica rotatoria, o objetivos de pulverización catódica de tubo, hay de tipo monolítico y de unión y tipo de pulverización. Able Target se enorgullece de anunciar su nueva gama de objetivos rotativos de pulverización catódica. Los objetivos rotatorios se fabrican mediante pulverización de plasma sobre un tubo base o a partir de piezas sólidas, longitudes de más de […]

Cristales, obleas, sustratos

Sustratos Able Target Limited puede proporcionar varios cristales individuales, sustratos y obleas como silicio, GGG, SiO2+Si, GaN, Cu, AlN, ZnO, LiF, Ge, SiO2, MgO, MgF2, GaAs, BaTiO3, TiO2, ZrO2, YSZ, LiNbO3, LiTaO3, LaTiO3, SrTiO3, LaAlO3, Al2O3, TGG (Tb3Ga5O12), TM ZnSe, etc. Podemos producir según requisitos personalizados como tamaño, pulido, grado y otros […]