回転式スパッタリングターゲット

Rotary Sputtering target also named by rotatable sputtering targets, or Rotating Sputtering targets, or  tube sputtering targets, there are monolithic and bonding type and spray type.

The Rotary Sputtering target are produced by either plasma spraying  onto a base tube or from solid pieces, Lengths of over 3000 mm are manufactured.

Complementing our advanced thermal spray capability, Able Target Limited  have developed proprietary casting capability to manufacture select rotatable sputtering targets to meet high density and high purity specifications.

Rotary Sputtering Target Relative density: >99% Purity: >99.5%≥99.999%

Rotary sputtering target size: φ56~190mm L: 120~5000 mm

Our Rotary Sputtering target materials including :

ZnO,i-ZnO, AZO, TiOx, TZO, ZnAl,CuGa, ZrO2,WOx,NbOx, Al2O3, Cu, Al, Sn, ZnSn, InSn, ATO, CdTe, V,NiCr, NiV, CrAl,CrAlSi, AlTi,AlSn, Cr, AlTi, Ti, Zr, Hf,Mo, MoNb, Inconiel, W, Ta, Nb, SiAl, Si, etc.

Ask for a Rotary Sputtering Targets brochure  with production and packing details

At the meantime,we can produce customized size according to customer’s requirement.

Testing standard: ICP-OES
MSDS Provided

技術の蓄積

  1. 多彩な製造技術・設備(冷間静水圧プレス+各種雰囲気焼結技術、溶射技術、低温金属・合金遠心鋳造技術、真空ホットプレス焼結技術、熱間静水圧焼結技術、電子ビーム溶解・局部溶解精製技術など) 。)
  2. 製品の多様性
  3. 製品のカスタマイズサービス
  4. 廃棄物対象リサイクル・再利用技術
  5. 自社所有の知的財産ターゲット結合サービス、結合ターゲットは高出力スパッタリングを実現できます
  6. 万全の商品販売サービス体制
  7. 正確な材料適用と技術サポートを提供する

コアテクノロジー

 

  1. 薄膜層設計と材料塗布設計
  2. 粉末材料合成技術
  3. 超微粉分散・分散技術
  4. DCC and CIP material forming technology
  5. 各種雰囲気保護・焼結技術
  6. 金属とセラミックスの摩擦圧接技術
  7. 遠心鋳造と精密金属合金加工
  8. プラズマ溶射材料の製造および表面処理技術

Quality control system(QC)

To ensure high quality production and sales services

We have established a comprehensive quality system control system and developed comprehensive operational procedures and operational standards. We always comply with ISO9001-2015 standards for all production, sales and quality control.

Production Facilities of ABLE TARGET

30年のスパッタリングターゲット製造