Roterend sputterdoel

Roterend sputterdoel, ook genoemd door roteerbare sputterdoelen, of roterende sputterdoelen, of buissputterdoelen, er zijn monolithische en bonding-type en spray-type.

Het roterende sputterdoel wordt geproduceerd door een van beide plasma spuiten  op een basisbuis of uit massieve stukken. Lengtes van meer dan 3000 mm worden vervaardigd.

Als aanvulling op onze geavanceerde thermische spray vermogen, Able Target Limited hebben ontwikkeld eigen gieterij mogelijkheid om geselecteerde roteerbare sputterdoelen te vervaardigen om te voldoen aan specificaties voor hoge dichtheid en hoge zuiverheid.

Roterend sputterdoel Relatieve dichtheid: >99% Zuiverheid: >99.5%≥99.999%

Roterende sputterdoelgrootte: φ56~190mm L: 120~5000 mm

Onze Rotary Sputtering-doelmaterialen, waaronder:

ZnO,i-ZnO, AZO, TiOx, TZO, ZnAl,CuGa, ZrO2,WOx,NbOx, Al2O3, Cu, Al, Sn, ZnSn, InSn, ATO, CdTe, V,NiCr, NiV, CrAl,CrAlSi, AlTi, AlSn, Cr, AlTi, Ti, Zr, Hf, Mo, MoNb, Inconiel, W, Ta, Nb, SiAl, Si, enz.

Vraag naar een brochure over roterende sputterdoelen  met productie- en verpakkingsdetails

In de tussentijd kunnen we een aangepast formaat produceren volgens de eis van de klant.

Testnorm: ICP-OES
MSDS verstrekt

Technologie accumulatie

  1. Een verscheidenheid aan productietechnieken en -apparatuur (koud isostatisch persen + sintertechnologie met verschillende atmosfeer, sproeitechnologie, centrifugaalgiettechnologie van metaal / legering bij lage temperatuur, vacuümheetperssintertechnologie, hete isostatische sintertechnologie, smelten met elektronenstralen / regionaal smelten Zuiveringstechnologie, enz. .)
  2. Productdiversiteit
  3. Service op maat van het product
  4. Afval gericht op recycling en hergebruiktechnologie
  5. Eigen doelbindingsservice voor intellectueel eigendom, bindend doel kan sputteren met hoog vermogen bereiken
  6. Perfect productverkoopservicesysteem
  7. Zorg voor een nauwkeurige materiaaltoepassing en technische ondersteuning

Kerntechnologie

 

  1. Ontwerp van dunne filmlagen en ontwerp van materiaaltoepassingen
  2. Technologie voor de synthese van poedermateriaal
  3. Ultrafijne poederdispersie en dispersietechnologie
  4. DCC- en CIP-materiaalvormtechnologie
  5. Verschillende soorten atmosfeerbescherming en sintertechnologie
  6. Wrijvingslastechnologie van metaal en keramiek
  7. Centrifugaal gieten en precisiebewerking van metaallegeringen
  8. Fabricage van plasmaspuitmateriaal en oppervlaktebehandelingstechnologie

Kwaliteitscontrolesysteem (QC)

Zorgen voor hoogwaardige productie- en verkoopdiensten

We hebben een uitgebreid systeem voor kwaliteitscontrole opgezet en uitgebreide operationele procedures en operationele normen ontwikkeld. Wij voldoen altijd ISO9001-2015 normen voor alle productie, verkoop en kwaliteitscontrole.

Productiefaciliteiten van ABLE TARGET

30 jaar productie van sputterdoelen