Semicondutores

Semicondutores

Able Target Limited contribui para a melhoria contínua de nossos produtos, processos e serviços. Nossas metodologias de qualidade bem estabelecidas são ativamente aplicadas a todas as suas necessidades atuais e futuras de alvo de pulverização catódica para Semicondutores formulários.

Alvos de pulverização para Semicondutores

Material

Nome

Composição [wt%]

Pureza

Ag

Prata

100%

3N7, 4N, 5N

al

Alumínio

100%

5N, 5N5

AlSi

Alumínio Silício

vários

5N, 5N5

AlSiCu

Alumínio Silício Cobre

vários

5N, 5N5

Au

Ouro

100%

4N, 5N

AuAs

ouro arsênico

AuAs0,4

4N, 5N

AuGe

ouro germânio

AuGe12

4N, 5N

AuPt

ouro platina

vários

4N

AuSb

Ouro Antimon

AuSb0,5 (30)

4N, 5N

AuSn

lata de ouro

AuSn20 (25, 30)

4N, 5N

AuZn

ouro zinco

AuZn2 (5)

4N

CoFeB

Cobalto Ferro Boro

vários

4N, 4N5

Cr

Cromo

100%

3N, 3N5

CrNiAl

Cromo Níquel Alumínio

vários

3N, 3N5

CrSi

Cromo Silício

CrSi50

3N

Cu

Cobre

100%

4N5, 5N

CuCr

cobre cromo

CuCr50

3N5

CuNi

Níquel de cobre

vários

3N5

Hf

Háfnio

100%

3N (excl. Zr)

ir

irídio

100%

3N

mo

Molibdênio

100%

3N5

MoSi

Molibdênio Silício

100%

3N5

Ni

Níquel

100%

3N5

NiAl

níquel alumínio

vários

3N5, 3N8

NiCr

níquel cromo

vários

3N, 3N5

NiCrAl

Níquel Cromo Alumínio

vários

3N, 3N5

NiCrAlSi

Níquel Cromo Alumínio Silício

20%

3N, 3N5

NiCrSi

Níquel Cromo Silício

100%

3N, 3N5

NiPt

níquel platina

vários

3N

NiV

Níquel Vanádio

NiV7

3N5

OsRu

ósmio rutênio

OsRu20%

3N5

Pd

Paládio

100%

3N5, 4N

PT

Platina

100%

3N5, 4N

ru

Rutênio

100%

2N8, 3N, 3N8

Si

Silício

100%

5N

ta

Tântalo

100%

3N5

TaAl

tântalo alumínio

vários

3N5

TaSi

Tântalo Silício

100%

3N, 4N, 4N5, 5N

ti

Titânio

100%

3N, 4N, 4N5, 5N

TiW

Titânio Tungstênio

TiW10

4N5

C

Tungstênio

100%

3N5

WSi

Silício de tungstênio

TiW10

4N5

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