Sputtering target
Способная цель ограничена is one of the earliest manufacturer engaged in Распыление мишени in china.
Compared to the evaporation coating method, Sputtering Target has quite obvious advantages in many aspects. As a relatively mature technology that has been developed, magnetron sputtering has been applied in many fields.
Классификация мишеней для магнетронного распыления:
Boride ceramic sputtering targets
Твердосплавная керамическая мишень для распыления
Мишени для напыления нитридной керамики
Мишени для распыления селенидной керамики
Мишени для распыления силицидной керамики
Мишени для распыления сульфидной керамики
По форме его можно разделить на квадратные мишени, круглые мишени и Вращающаяся мишень для распыления
По составу его можно разделить на металлическую мишень, мишень из сплава и мишени для распыления керамического соединения.
В соответствии с различными приложениями он делится на керамические мишени, связанные с полупроводниками, керамические мишени для записи среднего размера, керамические мишени для отображения, сверхпроводящие керамические мишени, керамические мишени с гигантским магнитосопротивлением и т. Д.
Sputtering is one of the main techniques for preparing thin film materials. It uses ions generated by an ion source to accelerate and aggregate in a vacuum to form a high-speed energy ion beam, bombarding a solid surface, and kinetic energy exchange between ions and solid surface atoms.
The atoms on the solid surface are separated from the solid and deposited on the surface of the substrate.
The bombarded solid is a raw material for preparing a deposited film by sputtering, which is called a sputtering target. Various types of sputtered thin film materials have been widely used in semiconductor integrated circuits, solar photovoltaics, recording media, flat displays, and surface coatings of workpieces.
Maybe what you need is not in the lists,but we can also manufacture special size Мишени для распыления according to our customer’s requests.

