Sputtering target

เอเบิ้ล ทาร์เก็ต จำกัด is one of the earliest manufacturer engaged in เป้าหมายสปัตเตอร์ in china.

Compared to the evaporation coating method, Sputtering Target has quite obvious advantages in many aspects. As a relatively mature technology that has been developed, magnetron sputtering has been applied in many fields.

การจำแนกเป้าหมายของแมกนีตรอนสปัตเตอร์:

Metal sputtering targets

Alloy sputter coating targets

Oxide ceramic targets

Boride ceramic sputtering targets

เป้าหมายสปัตเตอร์เซรามิกคาร์ไบด์

เป้าหมายการสปัตเตอร์เซรามิกไนไตรด์

เป้าหมายสปัตเตอร์เซรามิก Selenide

เป้าหมายสปัตเตอร์เซรามิกซิลิไซด์

เป้าหมายสปัตเตอร์เซรามิกซัลไฟด์

ตามรูปร่าง สามารถแบ่งออกได้เป็น เป้าเหลี่ยม เป้ากลม และ โรตารีสปัตเตอร์เป้าหมาย
ตามองค์ประกอบ มันสามารถแบ่งออกเป็นเป้าหมายโลหะ เป้าหมายโลหะผสม และเป้าหมายการสปัตเตอร์ผสมเซรามิก

ตามการใช้งานที่แตกต่างกัน มันแบ่งออกเป็นเป้าหมายเซรามิกที่เกี่ยวข้องกับเซมิคอนดักเตอร์, การบันทึกเป้าหมายเซรามิกขนาดกลาง, เป้าหมายเซรามิกแสดงผล, เป้าหมายเซรามิกยิ่งยวด, เป้าหมายเซรามิกที่มีความต้านทานสนามแม่เหล็กขนาดใหญ่ เป็นต้น

Sputtering is one of the main techniques for preparing thin film materials. It uses ions generated by an ion source to accelerate and aggregate in a vacuum to form a high-speed energy ion beam, bombarding a solid surface, and kinetic energy exchange between ions and solid surface atoms.

The atoms on the solid surface are separated from the solid and deposited on the surface of the substrate.

The bombarded solid is a raw material for preparing a deposited film by sputtering, which is called a sputtering target. Various types of sputtered thin film materials have been widely used in semiconductor integrated circuits, solar photovoltaics, recording media, flat displays, and surface coatings of workpieces.

Maybe what you need is not in the lists,but we can also manufacture special size เป้าหมายสปัตเตอร์ according to our customer’s requests.